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一、整機(jī)簡(jiǎn)述 特點(diǎn)/用途 ZHDS400型高真空有機(jī)/金屬蒸發(fā)鍍膜機(jī)是納米薄膜沉積系統(tǒng)與手套箱系統(tǒng)的有機(jī)結(jié)合，該設(shè)備可在惰性氣體保護(hù)的環(huán)境下完成裝片、裝料及換料取片等工作，并且由于采用惰性氣體的工作環(huán)境及無油真空系統(tǒng)使鍍膜機(jī)可更快的到達(dá)高真空，獲得潔凈的真空環(huán)境；本設(shè)備共配置4組蒸發(fā)源，組合配置靈活，具備單層蒸鍍、多源共蒸、分層鍍膜等功能。 蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境無縫對(duì)接融合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝無縫對(duì)接，穩(wěn)定性更高。廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池及OLED薄膜等研究系統(tǒng)；納米薄膜光電子器件制備及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等。

二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) 1.有機(jī)/金屬鍍膜室 鍍膜室尺寸：L400mm×W440mm×H450mm；SUS304不銹鋼制作，方箱式，配有前、后門，前門水平滑開式，材質(zhì)為鍛鋁，便于手套箱內(nèi)操作；后門為側(cè)開門，便于設(shè)備清理維護(hù)；特點(diǎn)：鍍膜室配置獨(dú)立機(jī)架，可在脫離手套箱條件下單獨(dú)調(diào)試和使用，與手套箱之間通過鍍膜室前門框密封連接，對(duì)接方便、密封可靠； 2.真空系統(tǒng) 復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空插板閥高真空系統(tǒng)，“兩低一高”數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)； 3.真空指標(biāo) 極限真空：優(yōu)于5.0×10-5Pa；(設(shè)備和手套箱分體，設(shè)備空載抽真空24小時(shí)) 抽速：從大氣抽至8.0×10-4Pa≤40min； 設(shè)備升壓率：≤0.8Pa/h； 設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，設(shè)備真空度≤10Pa； 4.基片臺(tái) 抽屜式結(jié)構(gòu)，承載小于120×120mm基片； 配有氣動(dòng)基片臺(tái)擋板； 基片臺(tái)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，旋轉(zhuǎn)速度0～20轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)； 手動(dòng)升降，升降基片臺(tái)可調(diào)節(jié)范圍70mm； 可根據(jù)用戶要求定制掩膜板1套； 5.基片臺(tái)加熱 加熱溫度：300℃，PID智能溫控閉環(huán)控制； 6.蒸發(fā)源 ①金屬源：水冷銅電極2組； 逆變式蒸發(fā)電源：功率3000W；1臺(tái)（1臺(tái)電源可切換2組蒸發(fā)源）； ②有機(jī)源：控溫有機(jī)蒸發(fā)源（溫度600°），2組； 有機(jī)蒸發(fā)源特點(diǎn)：角度向心可調(diào)（提高材料利用率，均勻性好），蒸發(fā)速率可控； 有機(jī)控溫蒸發(fā)電源：2套（獨(dú)立PID智能溫控蒸發(fā)）； ③蒸發(fā)源配氣動(dòng)擋板及源間防污隔板；  7.膜厚控制系統(tǒng)  選配  8.控制方式  采用PLC+觸摸屏半自動(dòng)控制；  9.報(bào)警及保護(hù)  對(duì)泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。  10.占地面積 L4800mm×W1600mm×H1900mm（含1.8米手套箱）