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磁控濺射鍍膜設(shè)備品牌
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特點(diǎn)/用途： 磁控濺射鍍膜設(shè)備體積小，真空獲得快，功能強(qiáng)大，使用成本低；PLC觸摸屏控制，操控方便該設(shè)備標(biāo)配1只平面靶，另預(yù)留1對(duì)蒸發(fā)電極接口，能夠?yàn)R射蒸發(fā)兩用（磁控濺射與蒸發(fā)鍍不能同時(shí)進(jìn)行）； 磁控濺射鍍膜設(shè)備主要用來開發(fā)納米級(jí)導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜等，基片臺(tái)加負(fù)偏壓可實(shí)現(xiàn)基片反濺清洗功能;非常適合于大專院校的教學(xué)、科研之用。
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