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高真空多靶鍍膜系統(tǒng) JCPY500品牌
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高真空多靶鍍膜系統(tǒng) JCPY500 真空濺射腔室：Ф500×H500mm； 濺射室：8.0×10-5Pa（空載，經烘烤除氣后）； 工作方式：各靶可獨立/順次/共同工作，采用磁控靶從上向下濺射鍍膜； 脈沖偏壓：-1000V，1套；
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