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高真空多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng) JCP500
高真空多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng) JCP500

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

高真空多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng) JCP500

品牌

研博智創(chuàng)

產(chǎn)地

河北

樣本

暫無
研博智創(chuàng)任丘科技有限公司

高級(jí)會(huì)員

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第1年

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設(shè)備主要技術(shù)參數(shù): 1.真空腔室 Ф500×H420mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼,前開門結(jié)構(gòu); 2.真空系統(tǒng) 復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空閥門組合的高真空系統(tǒng),數(shù)顯復(fù)合真空計(jì); 3.真空極限 6.0×10-5Pa(設(shè)備空載抽真空24小時(shí)); 4.漏率 設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h; 設(shè)備保壓:停泵12小時(shí)候后,真空≤10Pa; 5.抽速 (空載)從大氣抽至5.0×10-3Pa≤15min; 6.基片臺(tái)尺寸 Φ150mm范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格基片; 7.基片臺(tái)旋轉(zhuǎn)與加熱 基片旋轉(zhuǎn):0~20轉(zhuǎn)/分鐘; 加熱:室溫~500±1℃,可控可調(diào),日本島電PID智能溫控閉環(huán)控溫;  8.濺射靶 配置3套3英寸永磁共焦磁控濺射靶(濺射靶角度、高度可調(diào)); 磁控靶RF、MF、DC兼容,可以濺射磁性材料, 磁控靶配有氣動(dòng)擋板結(jié)構(gòu);

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10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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