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化學氣相沉積設備品牌
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化學氣相沉積設備 基片臺尺寸：Φ200mm; 電源:RF 500W; 真空腔室結構：立式上開蓋結構； 真空腔室尺寸：Φ350×H300mm；
化學氣相沉積設備產品概述 1.適用范圍：化學氣相沉積設備適用于各單位實驗室、高校實驗室、教學等項目的科研、產品中試。 2.產品優(yōu)點及特點：適用于硬涂層等膜的制備，以及等離子體的清洗。 3.主要用途:化學氣相沉積設備主要用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、W、Ti-Si、Gasb等介電、金屬膜。
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