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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的概念:

1.其厚度均勻性，也可理解為粗獵性，用光學膜(即1/10波長表示)約100A)真空鍍層的均勻性已相當高，可輕松控制可見光波長的粗糙度至1/10，也就是說，真空鍍膜，沒有任何阻礙作用。但在原子層尺度下，要想達到10A甚至1A的均勻性，具體控制因素如下:膜層的不同情況，要做詳細的鍍膜說明。

2.蒸發(fā)鍍膜設(shè)備真空鍍膜機中化學成分的一致性:即在膜層內(nèi)，由于化合物原子組尺寸較小，很容易形成不均，所以鍍膜時，若鍍不科學因此，實際表面的組分不是SITiO3，但也可以采用其它比例，得到的涂層與預(yù)期薄膜的化學成分無關(guān)。也就是真空鍍的技術(shù)含量。以下也列出了些具體因素。

3.格排列的均勻性:這決定著膜是否為單晶、多晶、非晶態(tài)，是真空鍍膜技術(shù)的一個研究熱點。

蒸發(fā)層:通常是加熱的靶材，使表面組成原子團或離子蒸發(fā)。

蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的厚度均勻性主要取決于:

1.襯底和靶材之間的晶格匹配程度,

2.襯底表面溫度,

3.蒸發(fā)功率、速率.

4.真空度

5.涂層時間、厚度尺寸。

組分均勻性:無法保證鍍層成分的均勻性，可調(diào)因素相同，但由于原理的限制，對非單組分鍍層的成分均勻性較差