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真空腔室尺寸：φ650×H650mm； 極限真空、抽氣速率：6.0×10-5Pa； 漏率：設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h； 整機(jī)功率：約40/60kW (視具體配置)；
多弧離子鍍膜機(jī)特點(diǎn)/用途： 該系統(tǒng)為高真空新型陰極弧源 +磁控濺射+離子源及直流脈沖偏壓電源輔助聯(lián)合鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)廣泛用于精密刀具和模具或軸承等外表面內(nèi)表面上沉積高性能耐磨擦、耐腐蝕陶瓷、金屬功能導(dǎo)電薄膜等，如TiAlN、TiN、Cu、Al、ITO等； 多弧離子鍍膜機(jī)功能強(qiáng)大，可靈活集成主流先進(jìn)的硬件配置及工藝技術(shù)路線，便于開發(fā)及應(yīng)用先進(jìn)納米薄膜技術(shù)；是一款理想納米材料科學(xué)應(yīng)用平臺(tái)； 多弧離子鍍膜機(jī)設(shè)計(jì)集成度高，開放式工藝菜單編輯，一鍵化操作，工藝參數(shù)存儲(chǔ)及曲線查詢，完備的保護(hù)，非常適合科研、中試及批量工業(yè)生產(chǎn)之需求；
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