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高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機 ZHD400品牌
研博智創(chuàng)產(chǎn)地
河北樣本
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一、整機簡述
特點/用途
ZHD400高真空電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,配4組蒸發(fā)源;適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等,也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗等。
該設(shè)備主機與控制一體化設(shè)計,PLC觸摸屏控制,操控方便,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實驗以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等,深受廣大用戶好評。
其主要用途有:
1. 適用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜,單層/多層/復(fù)合膜,例:銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等;
2. 適用于太陽能電池、LED的研究和實驗;
3. 適用于有機材料等蒸發(fā);
4. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜;例:氧化鉬、氟化鋰等;
5. 適用于掃描電鏡制樣等。
二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
1.真空腔室
304真空專用不銹鋼,L400×W440×H450mm;方形前開門結(jié)構(gòu);
2.真空系統(tǒng)
磁懸浮分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空擋板閥,“兩低一高”數(shù)顯復(fù)合真空計;
3.真空指標
極限真空優(yōu)于6.6×10-5Pa(設(shè)備空載抽真空24小時);
設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h;
設(shè)備保壓:停泵12小時候后,真空≤10Pa;
4.抽速
空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min;
5.基片臺
抽屜式結(jié)構(gòu),承載小于120×120mm基片;
電機驅(qū)動基片臺旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速度0~20轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào);
手動升降,升降基片臺可調(diào)節(jié)范圍70mm ;
可根據(jù)要求定制1種掩膜板(客戶提供掩膜圖案);
6.基片臺加熱
加熱溫度:300℃,PID智能溫控閉環(huán)控制;
7.蒸發(fā)源
①金屬源:水冷銅電極 2組;
逆變式蒸發(fā)電源,功率3000W; 1臺;
②有機源:有機蒸發(fā)源(
溫度600°),2組;
有機控溫蒸發(fā)電源:2套(獨立PID智能溫控蒸發(fā));
③每組蒸發(fā)源配氣動擋板及源間防污隔板;
暫無數(shù)據(jù)!