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高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機 ZHD400
高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機 ZHD400

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型號

高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機 ZHD400

品牌

研博智創(chuàng)

產(chǎn)地

河北

樣本

暫無
研博智創(chuàng)任丘科技有限公司

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一、整機簡述 特點/用途 ZHD400高真空電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,配4組蒸發(fā)源;適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等,也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗等。 該設(shè)備主機與控制一體化設(shè)計,PLC觸摸屏控制,操控方便,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實驗以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等,深受廣大用戶好評。 其主要用途有: 1. 適用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜,單層/多層/復(fù)合膜,例:銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等; 2. 適用于太陽能電池、LED的研究和實驗; 3. 適用于有機材料等蒸發(fā); 4. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜;例:氧化鉬、氟化鋰等; 5. 適用于掃描電鏡制樣等。 二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) 1.真空腔室 304真空專用不銹鋼,L400×W440×H450mm;方形前開門結(jié)構(gòu); 2.真空系統(tǒng) 磁懸浮分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空擋板閥,“兩低一高”數(shù)顯復(fù)合真空計; 3.真空指標 極限真空優(yōu)于6.6×10-5Pa(設(shè)備空載抽真空24小時); 設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h; 設(shè)備保壓:停泵12小時候后,真空≤10Pa; 4.抽速 空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min; 5.基片臺 抽屜式結(jié)構(gòu),承載小于120×120mm基片;  電機驅(qū)動基片臺旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速度0~20轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào); 手動升降,升降基片臺可調(diào)節(jié)范圍70mm ; 可根據(jù)要求定制1種掩膜板(客戶提供掩膜圖案); 6.基片臺加熱 加熱溫度:300℃,PID智能溫控閉環(huán)控制; 7.蒸發(fā)源 ①金屬源:水冷銅電極 2組; 逆變式蒸發(fā)電源,功率3000W; 1臺; ②有機源:有機蒸發(fā)源( 溫度600°),2組; 有機控溫蒸發(fā)電源:2套(獨立PID智能溫控蒸發(fā)); ③每組蒸發(fā)源配氣動擋板及源間防污隔板;

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