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PRISMO HiT3? MOCVD設(shè)備
PRISMO HiT3? MOCVD設(shè)備

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

PRISMO HiT3? MOCVD設(shè)備

品牌

中微公司

產(chǎn)地

上海

樣本

暫無
中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司

高級會(huì)員

|

第1年

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生產(chǎn)商

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中微具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的MOCVD設(shè)備PRISMO HiT3?,是適用于高質(zhì)量氮化鋁和高鋁組分材料生長的關(guān)鍵設(shè)備,反應(yīng)腔**溫度可大達(dá)1400攝氏度,單爐可生長18片2英寸外延片,并可延伸到4英寸晶片。 中微高溫MOCVD設(shè)備PRISMO HiT3專為深紫外LED量產(chǎn)而設(shè)計(jì),是目前業(yè)內(nèi)紫外LED產(chǎn)能先進(jìn)的高溫MOCVD設(shè)備。

產(chǎn)品特點(diǎn)

適用于高溫氮化鋁和深紫外 LED生長的關(guān)鍵設(shè)備

優(yōu)異均勻性和高效能相結(jié)合

適合高晶體質(zhì)量和高AIN生長速率的新穎腔體設(shè)計(jì)

創(chuàng)新的實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)

工藝溫度**可達(dá)1400度,具有優(yōu)異的溫場均勻性和控制穩(wěn)定性

具有高穩(wěn)定性、自動(dòng)化的真空傳送系統(tǒng),抑制顆粒的產(chǎn)生

界面友好、全自動(dòng)化的操作系統(tǒng)

競爭優(yōu)勢

優(yōu)異的工藝重復(fù)性,簡化工藝調(diào)整需求,提高產(chǎn)品良率

單爐可生長18片2英寸外延晶片,具有較低的生產(chǎn)成本

集成頂蓋升降機(jī)構(gòu),簡化設(shè)備維護(hù),提高設(shè)備利用率

業(yè)界**的UVC LED產(chǎn)能及維護(hù)周期


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