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Polaris Series品牌
北方華創(chuàng)產(chǎn)地
中國樣本
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Polaris TSV PVD主要由大氣平臺,真空傳輸平臺,去氣腔室(Degas),預清潔腔室和工藝腔室組成,設備采用Cluster Tool結(jié)構(gòu),可配置多個工藝腔室、預清洗腔室和去氣腔室,適合先進封裝領(lǐng)域TSV粘附層、擴散阻擋層以及種子層薄膜制備大規(guī)模生產(chǎn)。Polaris系列PVD為全自動大產(chǎn)能設備,具有反應腔自動開閉蓋、晶圓自動傳輸、工藝去氣、晶圓表面預清潔、薄膜沉積完全自動化等特點。
設備特點
?專業(yè)的磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)設計有效提高靶材利用率
?高離化率的磁控濺射源設計帶來良好的臺階覆蓋率表現(xiàn)
?針對先進封裝領(lǐng)域優(yōu)化的穩(wěn)定的傳輸系統(tǒng),兼容多種類型的基片
?專業(yè)的偏壓基座設計,良好的冷卻性能
?優(yōu)化的工藝流程帶來大產(chǎn)能表現(xiàn),低運營成本
產(chǎn)品應用
?晶圓尺寸:8、12英寸
?適用材料:銅、鈦、氮化鈦、鉭、氮化鉭
?適用工藝:2.5D/3D TSV沉積
?適用領(lǐng)域:先進封裝
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