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設(shè)備特點(diǎn)

成膜好:采用懸浮鍍膜技術(shù)或貼輥鍍膜技術(shù)，基材表面不易劃傷，膜層均勻。合理的冷卻結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，避免基材鍍膜過(guò)程中變形:

結(jié)構(gòu)新:錯(cuò)位式裝靶結(jié)構(gòu)或包圍式裝靶結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì);

適用廣:可配備不同的磁控陰極，如平面靶、圓柱靶:可適用多種柔性基材。

應(yīng)用領(lǐng)域

設(shè)備主要采用磁控濺射鍍膜工藝，適合在柔性卷材，如:PET、BOPP PEN、PI、PC、PE等有機(jī)薄膜或纖維布料、紙卷、海綿、金屬卷材、超薄玻璃等，沉積功能性或裝飾性等膜層?？梢藻冎频哪影?Cu、Ag、Cr、Ni、Au、Si、ITO、C等導(dǎo)電膜或者NiCr、NiCu、InSn等合金膜或者Si0z、Nbz0,、Al0:等介質(zhì)膜，可以實(shí)現(xiàn)單層或多層功能性或裝飾性膜層的制備。設(shè)備可以應(yīng)用于制備撓性覆銅板、導(dǎo)電布、電磁屏蔽膜、鋰 電池復(fù)合銅箔、透明導(dǎo)電膜、散熱膜、高反膜等產(chǎn)函。