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設(shè)備特點

成膜好:采用磁控濺射方式，沉積速率快，膜層均勻致密、內(nèi)應力小;

適用廣:適用于多種膜系，工件可選擇單面或者雙面鍍膜

產(chǎn)量大:連續(xù)穩(wěn)定的流水線作業(yè)，生產(chǎn)節(jié)拍快。產(chǎn)量大；

擴展強:整線為立式結(jié)構(gòu)，基礎(chǔ)款為四腔體;可增加擴展腔體滿足各種工藝要求。

應用領(lǐng)域

適用于鍍制TTO、AZ0等透明導電薄膜，以及單質(zhì)金屬Ti、Ag、Cu、Ni、等材料，主要應用于鈣鈦礦光伏電池板，平板顯示，車載玻璃等產(chǎn)品，成膜均勻性高，膜厚穩(wěn)定性高，速率穩(wěn)定性高。