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桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀品牌
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簡單介紹：
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜
詳情介紹：
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜。其核心特點(diǎn)包括：
鋁合金真空腔體：輕量化設(shè)計(jì)，耐腐蝕性好，適合實(shí)驗(yàn)室或小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。
單靶配置：支持單一靶材（如金屬、合金或氧化物），結(jié)構(gòu)簡單，操作便捷。
磁控濺射技術(shù)：利用磁場約束等離子體，提高濺射效率，形成均勻、致密的薄膜。
桌面設(shè)計(jì)：體積小巧，適合科研院所、高校實(shí)驗(yàn)室等空間有限的場所。
應(yīng)用領(lǐng)域：
該設(shè)備廣泛用于材料科學(xué)、光學(xué)、電子等領(lǐng)域，具體包括：
光學(xué)薄膜：如增透膜、反射膜、濾光片等。
電子器件：半導(dǎo)體電極、導(dǎo)電薄膜（如ITO）、傳感器涂層。
功能材料：耐磨涂層（如TiN）、防腐涂層、超硬薄膜（類金剛石）。
科研實(shí)驗(yàn)：新材料開發(fā)、薄膜性能測試、教學(xué)演示等。
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱 | 桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSZ200-I-DC-AL | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | φ50mm |
旋轉(zhuǎn) | 自轉(zhuǎn)+公轉(zhuǎn)角度傾斜2英寸 | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X 150mm |
腔體材料 | 鋁合金 | |
開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
真空系統(tǒng) | 真空測量 | 復(fù)合真空計(jì)，量程:10-5~105Pa |
抽氣接口 | KF25 | |
系統(tǒng)真空 | 1.0E-1Pa（機(jī)械泵） | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
輸出功率 | 直流電源500W | |
其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機(jī)功率 | 2kW | |
重 量 | 30kg | |
整機(jī)尺寸 | 385X450X420mm | |
暫無數(shù)據(jù)！
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