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桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體品牌
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河南樣本
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簡單介紹：
本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
詳情介紹：
本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。 本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優(yōu)良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
應用領域：
本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
技術參數(shù)：
產品名稱 | 桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控濺射鍍膜儀 | |
產品型號 | CY-MSZ254-II-DC-SS | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ100mm |
可調轉速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配兩支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ254mm X 300mm |
觀察窗口 | 前置式 | |
腔體材料 | 304不銹鋼 | |
開啟方式 | 上蓋開啟及前開門 | |
真空系統(tǒng) | 前級泵 | 雙極旋片泵 |
分子泵 | 大抽速渦輪分子泵 | |
真空測量 | 復合真空計，量程:10-5~105Pa | |
抽氣接口 | ISO63 | |
排氣接口 | KF16 | |
系統(tǒng)真空 | 1.0×10-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 前級泵抽速1.1L/s | |
輸出功率 | 直流電源500W | |
其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機功率 | 2kW | |
整機尺寸 | 710*480*580 | |
暫無數(shù)據(jù)！
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