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產(chǎn)品摘要

該設(shè)備用于多種涂層制備，尤其是硬質(zhì)涂層及防腐耐磨涂層、裝飾鍍材料制備；可廣泛用于大專院校、研究院所和企業(yè)器件研發(fā)制造及小批量生產(chǎn)。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn)：

★設(shè)備可配備矩形磁控濺射靶，圓形平面靶、柱狀靶，多弧靶，離子源等

★設(shè)備功能強(qiáng)大、磁控、多弧、離子源等通用接口安裝實(shí)現(xiàn)任意組合，可**限度實(shí)現(xiàn)多種類膜層的制備

★適合研發(fā)實(shí)驗(yàn)室初期多用途薄膜制備平臺(tái)的搭建

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸：304不銹鋼腔室Φ650×H700mm

★真空極限：優(yōu)于（5E﹣05）Pa

★工件架：約Φ350mm，4-6工位公/自轉(zhuǎn)工件架；可加偏壓

★工件烘烤溫度：室溫500±5℃ 可調(diào)可控（PID控溫）

★工件架轉(zhuǎn)速：0-20RPM可調(diào)