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12吋薄膜沉積設備品牌
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HDPCVD通過特殊的硬件和射頻系統(tǒng)設計，可以獲得比傳統(tǒng)PECVD高1至2個數(shù)量級的高密度等離子體，因其填充能力強、薄膜質量好的特點廣泛應用于淺槽隔離、介質層填充、鈍化層填充等具有一定深寬比的結構中。
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