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簡(jiǎn)介： 四方儀器始終專注于氣體分析儀領(lǐng)域的技術(shù)研發(fā)與創(chuàng)新，針對(duì)薄膜沉積設(shè)備清潔終點(diǎn)檢測(cè)需求，推出SiF4紅外氣體傳感器。其基于公司自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的雙光束紅外（NDIR）技術(shù)，精確測(cè)量半導(dǎo)體應(yīng)?中微量特種?體的紅外光譜吸收，其零點(diǎn)漂移低、重復(fù)性好，確保每次清洗終點(diǎn)一致。測(cè)量穩(wěn)定性高（準(zhǔn)確度≤±1.0% F.S.），響應(yīng)速度快（響應(yīng)時(shí)間T90≤2秒），實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)氣體濃度變化；原位設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，采用耐腐蝕材料，便于集成與維護(hù)；支持模擬/數(shù)字通信，靈活適配各類系統(tǒng)。實(shí)際測(cè)試中，其成功實(shí)現(xiàn)清潔終點(diǎn)的精準(zhǔn)控制，助力CVD設(shè)備技術(shù)升級(jí)。