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薄膜沉積設(shè)備

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中國(guó)粉體網(wǎng)訊 半導(dǎo)體設(shè)備可分為前道設(shè)備(晶圓制造)和后道設(shè)備(封裝與測(cè)試)兩大類。前道設(shè)備投資量占總設(shè)備的80%以上,刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備和光刻機(jī)分別占前道設(shè)備價(jià)值量的22%、22%和17%,是半導(dǎo)體前道生產(chǎn)工藝中的三大核[更多]

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