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粉體鍍膜設(shè)備JGCF350品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備名稱：粉體鍍膜設(shè)備
設(shè)備型號(hào)：JGCF350
鍍膜方式：磁控濺射
真空腔室結(jié)構(gòu)：Φ350mmxH350mm
粉體 / 顆粒尺寸：≥ 10um
物料裝載：托盤震動(dòng)
產(chǎn)量：3-10g
加熱烘烤：可選
濺射源 ：2 英寸圓形平面靶 1-2 只
占地面積：L1620mm×W1060mm×H1900mm
總功率：≥ 8kW
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )
報(bào)警及保護(hù)系統(tǒng)：完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)
1. 在微米級(jí)以上粉體顆粒表面沉積各種納米級(jí)單層及多層導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜等；
2. 系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面金屬化，達(dá)到表面導(dǎo)電，例：碳化硅表面鍍鈦，氧化鋁表面鍍鎳等 ;
3. 系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面反射率的改變，應(yīng)用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料，
例：玻璃微珠鍍氧化鈦等；
4. 系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面層成份改變，應(yīng)用于新型合金材料改變其中某一成份含量；
5. 系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面沉積新材料，有效提高粉體固化粘結(jié)強(qiáng)度，例：金剛石粉鍍鉻等
6. 廣泛應(yīng)用于粉體燒結(jié)、3D 打印原材料、粉體表面光學(xué)性能改變等行業(yè)及研究方向。
我公司**技術(shù)，粉體顆粒涂覆技術(shù)國(guó)內(nèi)**，微米級(jí)粉體包覆率大于 90%，結(jié)合力好；
已能實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品系列化滿足科研及批量化生產(chǎn)之需求。
暫無數(shù)據(jù)！
磁控濺射設(shè)備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領(lǐng)域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領(lǐng)域：在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個(gè)有點(diǎn)拗口的名字取自俄羅斯礦物學(xué)家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實(shí)際上和鈣、鈦、礦三個(gè)字都沒太大關(guān)系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結(jié)構(gòu)類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng)，碳?xì)浠衔镌诟邷叵掳l(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成膜先驅(qū)物，當(dāng)樣品溫度合適時(shí)，這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學(xué)氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
CVD(化學(xué)氣相沉積)是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，它是很簡(jiǎn)單的:兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi)，
有人曾這樣形容磁控濺射技術(shù)——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術(shù)是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來，新型太陽(yáng)能電池技術(shù)不斷發(fā)展，鈣鈦礦電池作為其中的代表之一，一度成為人們關(guān)注的熱點(diǎn)。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉(zhuǎn)化效果、簡(jiǎn)單的制備工藝和原材料的充足性，被譽(yù)為是下一代光伏電池的主流技術(shù)之一。近日，
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