參考價(jià)格
面議型號(hào)
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHDS500品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備型號(hào):ZHDS500
鍍膜方式:金屬 + 有機(jī)蒸發(fā)
真空腔室結(jié)構(gòu):SUS304 方箱式,配有前、后門(mén)
真空腔室尺寸:L500mmxW500mmxH650mm
加熱溫度:室溫-300℃(選配)
基片臺(tái)尺寸:抽屜式:220mmx220mm可旋轉(zhuǎn)、升降、水冷
膜厚不均勻性:≤±5.0%(220mmx220mm范圍內(nèi))
蒸發(fā)源:金屬/有機(jī)4-6組
晶振膜厚監(jiān)控儀:國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口(可選)
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積:L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
總功率:≥12kW 三相五線制
1. 技術(shù)先進(jìn)、設(shè)計(jì)優(yōu)化,性價(jià)比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;
2. 廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池/OPV有機(jī)太陽(yáng)能電池等各種膜層的制備;
如:鈣鈦礦層、電子傳輸層及背電極等膜層的制備
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
磁控濺射設(shè)備的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.裝飾領(lǐng)域:各種全反射膜及半透明膜等;3.微電子領(lǐng)域:在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦(perovskite),這個(gè)有點(diǎn)拗口的名字取自俄羅斯礦物學(xué)家Perovski,作為光伏材料的鈣鈦礦,實(shí)際上和鈣、鈦、礦三個(gè)字都沒(méi)太大關(guān)系,這是一類(lèi)與鈣鈦礦(CaTiO3)晶體結(jié)構(gòu)類(lèi)
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng),碳?xì)浠衔镌诟邷叵掳l(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成膜先驅(qū)物,當(dāng)樣品溫度合適時(shí),這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學(xué)氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻,膜層致密。CV
有人曾這樣形容磁控濺射技術(shù)——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術(shù)是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)的一種,其原理是:用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來(lái),新型太陽(yáng)能電池技術(shù)不斷發(fā)展,鈣鈦礦電池作為其中的代表之一,一度成為人們關(guān)注的熱點(diǎn)。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉(zhuǎn)化效果、簡(jiǎn)單的制備工藝和原材料的充足性,被譽(yù)為是下一代光伏電池的主流技術(shù)之一。近日,
半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展離不開(kāi)行業(yè)的共識(shí),而行業(yè)的共識(shí)往往體現(xiàn)在行業(yè)所公認(rèn)的路線圖里面。在上世紀(jì)末,美國(guó)的半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(huì)SIA聯(lián)合歐洲和亞洲的半導(dǎo)體行業(yè),開(kāi)始發(fā)布大名鼎鼎的國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖(ITRS)。I