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磁控濺射鍍膜設(shè)備主要是使用直流(或中頻)磁控濺射,可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材,如:銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料,可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜,可提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻度等特點(diǎn)。
磁控濺射設(shè)備應(yīng)用
磁控濺射設(shè)備參數(shù)
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