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氮化鉭 TaN 金屬粉末

氮化鉭 TaN 金屬粉末
  • 品牌:上海研倍
  • 產(chǎn)地:上海
  • 關注度:224
  • 型號:RDB-FM-TaN
  • 報價:面議
  • 信息完整度:
核心參數(shù)
  • 純度:99.9%,可定制
  • 目數(shù):200目
產(chǎn)品介紹

上海研倍新材料 專業(yè)生產(chǎn)金屬粉末 TaN 金屬粉末

1、產(chǎn)品信息

貨號純度規(guī)格形貌
RDB-FM-TaN可定制10-50μm、20-63μm、50-100μm 等銀灰色粉末

2、產(chǎn)品規(guī)格

樣品測試包裝:客戶指定(<1kg / 真空玻璃安瓿瓶)

樣品產(chǎn)品包裝:1kg / 真空鋁箔袋(內(nèi)置干燥劑)

常規(guī)產(chǎn)品包裝:5kg/10kg/25kg(不銹鋼桶封裝)

備注:采用三層防潮密封包裝,內(nèi)部充高純氮氣保護,儲存需避光、干燥、通風,遠離酸、堿、強氧化劑。

3、產(chǎn)品概述

TaN(氮化鉭)金屬粉末通過化學氣相沉積(CVD)或等離子體氮化工藝制備,具有粒度均勻、純度高、化學穩(wěn)定性強的特點。作為典型的難熔金屬氮化物,TaN 晶體呈面心立方結構,兼具超高硬度(顯微硬度達 2000 - 2500HV)、優(yōu)異的耐高溫性能(抗氧化溫度超 1200℃)和**的耐腐蝕性(抗大多數(shù)強酸強堿侵蝕)。此外,TaN 還具備良好的導電性(電阻率約 150 μΩ?cm)和低摩擦系數(shù),是集高強度、功能性于一體的先進材料,可通過物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)、熱噴涂等工藝實現(xiàn)涂層制備或部件成型。

4、產(chǎn)品用途

半導體與微電子領域:作為集成電路(IC)的擴散阻擋層和互連材料,TaN 可有效阻止銅原子擴散,防止電遷移失效,提升芯片可靠性,廣泛應用于 5G 芯片、先進封裝基板制造;同時適用于制作高溫傳感器、薄膜電阻等電子元件,在 300℃以上高溫環(huán)境中保持穩(wěn)定電學性能。

超硬涂層與刀具加工:通過 PVD/CVD 工藝在硬質合金刀具、高速鋼刀具及模具表面沉積 TaN 涂層(厚度 2 - 5μm),可顯著提高刀具表面硬度、耐磨性和抗氧化性,降低切削過程中的摩擦系數(shù),使刀具壽命提升 3 - 5 倍,尤其適用于加工航空航天鋁合金、鈦合金等高硬度材料;也常用于手表表殼、精密軸承等表面處理,增強耐磨性與美觀性。

航空航天與國防**:用于制備火箭發(fā)動機噴嘴、渦輪葉片表面防護涂層,抵御 3000℃以上高溫燃氣沖刷與氧化腐蝕,延長部件服役壽命;作為熱障涂層底層材料,與陶瓷層復合使用,可增強界面結合強度,提升航空發(fā)動機熱效率;此外,TaN 的高硬度與抗沖擊性使其適用于防彈裝甲、武器裝備關鍵部件的表面強化。

新能源與儲能行業(yè):在固態(tài)電池領域,TaN 可用于改性電解質界面,抑制鋰枝晶生長,提高電池循環(huán)穩(wěn)定性與安全性;作為電解水制氫的陽極涂層材料,TaN 能夠耐受強堿性電解液腐蝕,提升催化活性,助力氫能高效生產(chǎn)。

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工商信息

企業(yè)名稱

上海研倍新材料科技有限公司

企業(yè)類型

有限責任公司(自然人獨資)

信用代碼

91310000MACUKKAG41

法人代表

韓利敏

注冊地址

中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)臨港新片區(qū)宏祥北路83弄1-42號20幢118室

成立日期

2023-08-18

注冊資本

1000萬元人民幣

有效期限

2023-08-18 至 2053-08-17

經(jīng)營范圍

一般項目:新材料技術研發(fā);新材料技術推廣服務;技術服務、技術開發(fā)、技術咨詢、技術交流、技術轉讓、技術推廣;金屬制品研發(fā);軟件開發(fā);信息系統(tǒng)集成服務;自然科學研究和試驗發(fā)展;貨物進出口;技術進出口;進出口代理;國內(nèi)貨物運輸代理;機械設備銷售;金屬制品銷售;化工產(chǎn)品銷售(不含許可類化工產(chǎn)品);金屬材料銷售;新型金屬功能材料銷售;有色金屬合金銷售;高性能有色金屬及合金材料銷售;實驗分析儀器銷售;3D打印基礎材料銷售;計算機軟硬件及輔助設備批發(fā)。(除依法須經(jīng)批準的項目外,憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動)
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