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一、材料基本特性

1. 結(jié)構(gòu)特征

• 99.9%級：Na?O≤300ppm，F(xiàn)e?O?≤50ppm

• 99.99%級：Na?O≤50ppm，F(xiàn)e?O?≤5ppm

• 化學(xué)式：AlO(OH)·nH?O（n=0.08-0.15）

• 晶體結(jié)構(gòu)：單斜晶系納米薄片狀

• 純度分級：

2. 物理參數(shù)

   指標99.9%級99.99%級比表面積280-320 m2/g300-350 m2/g孔容0.9-1.1 mL/g1.0-1.3 mL/g灼減量23-25%24-26%

二、關(guān)鍵制備技術(shù)

1. 鋁酸鈉碳化法（主流工藝）

• 采用三級梯度碳化控制（pH 9.5→8.8→7.2）

• 超濾洗滌技術(shù)（截留分子量10kDa）

• 動態(tài)煅燒工藝（450℃±5℃）

2. 醇鋁水解法（高純路線）

• 異丙醇鋁原料純度≥99.995%

• 水解溫度精確控制（85±0.5℃）

• 專利除鈉技術(shù)（中科院過程所AS-3工藝）

三、高端應(yīng)用領(lǐng)域

1. 半導(dǎo)體行業(yè)

• 用作CMP拋光粉載體（要求Fe<3ppm）

• 藍寶石襯底鍍膜材料（純度99.99%）

2. 新能源領(lǐng)域

• 鋰電隔膜涂覆材料（孔容≥1.2mL/g）

• 固態(tài)電解質(zhì)添加劑（D50<100nm）

3. 尖端催化

• 航天器用催化劑載體（耐溫1000℃）

• 醫(yī)用PCR催化劑（無菌級制備）

四、技術(shù)突破方向

1. 原子層沉積（ALD）用前驅(qū)體開發(fā)

2. 單分散納米晶制備技術(shù)（粒徑CV<5%）

3. 2024年新發(fā)布的GB/T 39101-2024超高純標準