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產(chǎn)品概述:
小型冷水機主要針對實驗儀器、應(yīng)用在化學,物理,光學等實驗室儀器上配套,如:化學、生物領(lǐng)域:原子吸收、ICP、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應(yīng)器(合成器)等。
材料領(lǐng)域:電鏡、X射線衍射、X熒光、真空爐、鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等等。
物理領(lǐng)域:激光器(各種型號)、磁場、各種分子泵以及包括材料領(lǐng)域使用的各種需水冷設(shè)備。
醫(yī)療器械:核磁共振、超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、X光機
工業(yè)應(yīng)用:PCB鉆孔機、激光打標 、激光切割、加工中心主軸等熱量大不大,對水質(zhì)和控溫精、度有特殊要求。機組配有流量保護,手動添加水,適合純凈水,蒸餾水杜絕二次污染。
冷卻水循環(huán)裝置應(yīng)用領(lǐng)域:
化學、生物領(lǐng)域:氫氧測定儀、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應(yīng)器(合成器)等。
材料領(lǐng)域:石墨爐原子原子吸收、等離子光譜儀(ICP)真空鍍膜電鏡、X射線衍射儀、X熒光衍射儀、真空爐、鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗機、離子減薄儀、離子束外延設(shè)備、氣相外延設(shè)備、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等等。
物理領(lǐng)域:激光器(各種型號)、磁場、超導(dǎo)、低溫探頭、各種分子泵以及包括材料領(lǐng)域使用的各種需水冷設(shè)備。
醫(yī)療器械:核磁共振、超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、X光機
廣泛應(yīng)用于大學物理,材料,化學,生物,醫(yī)學等學院和科研機構(gòu),研發(fā)中心及需要冷源場所。
三:儀器特點
1.先進的制冷技術(shù),質(zhì)量穩(wěn)定,可靠性高;寬廣的溫度范圍5℃~35℃之間任意調(diào)節(jié)。
2.采用微電腦版控制器,操作簡單,多種精度可以選擇(±0.1℃、±0.3℃、±0.5℃、±1℃等),
3.具備手動添加水,適合純凈水/蒸餾水,杜絕二次污。
4.溫度可調(diào),實現(xiàn)全自動智能化控制 系統(tǒng)水溫,超高溫報警,水流,故障信號報警輸出,可定制遠程控制
5、安全保護及指示功能一應(yīng)俱全,保證機組安全可靠運行。
6.可接受客戶非標制作,儀器結(jié)構(gòu),尺寸,流量,溫度精度,壓力等噪音低、控溫精度高
四:使用注意事項:
1. 本機切勿使用腐蝕性液體:
2. 連接的電源制式與產(chǎn)品銘牌相符
3. 應(yīng)確保水位高于盤管
4. 水位高于盤管頂部,以免造成換熱不充分,
5. 為保持設(shè)備的工作正常,在設(shè)備的進,出風口必須保證有大于50MM以上的通風空間,不得有雜物,垃圾等不允許堵住進,出風口
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