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TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)在減反射涂層材料制備中的應(yīng)用
人和科儀 2025/08/15 | 閱讀:99
產(chǎn)品配置單: 方案詳情:
TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)在減反射涂層材料制備中的應(yīng)用關(guān)鍵詞:連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)、分散機(jī)、均質(zhì)機(jī)、減反射涂層材料制備引言在現(xiàn)代光學(xué)與光電領(lǐng)域,減反射涂層對(duì)于提升光學(xué)元件的性能至關(guān)重要。其通過降低表面反射率,增加光線的透射率,在太陽能電池、光學(xué)鏡片、顯示屏等眾多產(chǎn)品中廣泛應(yīng)用。制備高性能的減反射涂層,關(guān)鍵在于確保涂層材料的均勻分散與穩(wěn)定,而TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)憑借獨(dú)特工作原理與出色性能,成為這一制備過程中的得力設(shè)備。 減反射涂層材料的制備要求材料特性需求減反射涂層材料通常包含納米級(jí)的功能性顆粒,如二氧化硅、二氧化鈦等,以及樹脂基體。這些納米顆粒需均勻分散在基體中,形成特定微觀結(jié)構(gòu),以實(shí)現(xiàn)低反射率。例如,在太陽能電池減反射涂層中,均勻分散的納米二氧化鈦顆粒可有效減少光的反射,提高光電轉(zhuǎn)換效率;在光學(xué)鏡片涂層里,合適粒徑且分散良好的二氧化硅顆粒能改善鏡片的視覺清晰度。同時(shí),涂層材料需具備良好的成膜性、附著力和化學(xué)穩(wěn)定性,以保證在不同環(huán)境與使用條件下,涂層性能穩(wěn)定。 傳統(tǒng)制備方法的挑戰(zhàn)傳統(tǒng)的減反射涂層材料的制備方法,如攪拌混合、超聲分散等,存在諸多不足。簡(jiǎn)單攪拌難以將納米顆粒在樹脂中充分分散,易造成團(tuán)聚現(xiàn)象,影響涂層的均一性與光學(xué)性能。超聲分散雖能在一定程度上打散團(tuán)聚體,但能耗高、處理量小,且對(duì)設(shè)備要求苛刻,難以滿足大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)需求。此外,這些傳統(tǒng)方法對(duì)于精確控制顆粒粒徑分布和分散狀態(tài)的能力有限,導(dǎo)致涂層性能波動(dòng)較大。 TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)的工作原理與優(yōu)勢(shì)1. 工作原理TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)主要由高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子和固定的定子組成。工作時(shí),待處理的物料從進(jìn)料口進(jìn)入到轉(zhuǎn)子中心區(qū)域。隨著轉(zhuǎn)子以極高的速度(最高可達(dá)25000轉(zhuǎn)/分鐘)旋轉(zhuǎn),材料受到強(qiáng)大的離心力作用,被快速甩向定子方向。在轉(zhuǎn)子與定子之間極其狹窄的間隙內(nèi),材料經(jīng)受強(qiáng)烈的剪切、摩擦、撞擊和空化等綜合作用。例如,轉(zhuǎn)子上的齒形結(jié)構(gòu)與定子的對(duì)應(yīng)結(jié)構(gòu)相互配合,對(duì)材料進(jìn)行多次反復(fù)剪切,就像無數(shù)把微小的剪刀,將團(tuán)聚的顆粒迅速打散;高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的空化效應(yīng),能在局部形成瞬間高壓與低壓交替的環(huán)境,進(jìn)一步破碎顆粒并促進(jìn)分散。經(jīng)過處理后的材料,從定子的出料口排出,完成一次均質(zhì)過程。若需更精細(xì)的分散效果,可通過循環(huán)系統(tǒng)讓材料多次通過定轉(zhuǎn)子間隙。 2. 相比傳統(tǒng)分散設(shè)備的優(yōu)勢(shì)與傳統(tǒng)分散設(shè)備相比,TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)優(yōu)勢(shì)顯著。在分散效率方面,其能在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)高效分散,大大縮短制備周期。以某光學(xué)企業(yè)制備二氧化硅基減反射涂層材料為例,使用傳統(tǒng)攪拌設(shè)備需數(shù)小時(shí)才能達(dá)到初步分散效果,而TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)僅需幾十分鐘,生產(chǎn)效率大幅提升。在分散質(zhì)量上,TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)可將顆粒分散至更細(xì)粒徑,且粒徑分布更窄,確保涂層的光學(xué)性能更加穩(wěn)定均一。在高折射率減反射涂層材料制備中,傳統(tǒng)設(shè)備處理后的涂層反射率波動(dòng)范圍較大,而TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)處理后,涂層反射率可穩(wěn)定控制在較低水平,偏差極小。同時(shí),TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)操作相對(duì)簡(jiǎn)單,維護(hù)成本較低,適合工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)。 TRILOS連續(xù)分散均質(zhì)機(jī)在減反射涂層材料制備中的應(yīng)用案例……(下方下載文檔閱讀全文) 想要了解更多解決方案和產(chǎn)品信息歡迎聯(lián)系上海人和科學(xué)儀器有限公司! 下載本篇解決方案:
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