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金屬顆粒的識別是清潔度分析的重要要求。近年來,金屬顆粒的光學檢測通常是通過光澤度進行的。根據(jù)實驗室經(jīng)驗,我們發(fā)現(xiàn)光學顯微鏡分析通常會導致錯誤的分類,這可以通過使用掃描電鏡和能譜(SEM+EDX)的檢測方法進行材料分析,輕松避免金屬顆粒的誤識別。
光學顯微鏡與掃描電鏡檢測的原理是什么?
金屬顆粒的光學顯微鏡檢測是基于光反射進行的,包含亮點的顆粒被分類為金屬雜質(zhì)。在所有其他情況下,該顆粒被視為非金屬雜質(zhì)。在掃描電鏡和能譜(SEM+EDX)的分析中,會測量顆粒的 X 射線光譜,從而識別其元素成分,實現(xiàn)精確的材料分類。
所有金屬顆粒都會發(fā)光嗎?
根據(jù)光反射原理的分析,要求濾膜上的金屬顆粒要反光發(fā)亮。由于污染物顆粒在零件加工過程中暴露于液體、高溫和摩擦環(huán)境中,因此它們的表面會因為腐蝕等原因而不反光,呈現(xiàn)暗色。這些金屬顆粒在光學顯微鏡下,會被錯誤地分類為非金屬顆粒。
在如下示例中,顯示了三種顆粒(鋅,鋼和鋁),這些顆粒通過光學顯微鏡確認為非金屬。然而,通過掃描電鏡和能譜(SEM+EDX)分析顯示了這些顆粒的金屬性質(zhì)。
光學顯微鏡嚴重低估了金屬顆粒的數(shù)量
下方案例顯示了與 SEM+EDX 相比,光學顯微鏡分析存在重大誤差。
由汽車供應商提供的同一片濾膜,分別進行了光學顯微鏡的顆粒分析以及 SEM+EDX 的測試分析。通過比較結(jié)果顯示,光學顯微鏡檢測的金屬顆粒數(shù),不到實際金屬顆粒的 1/60。
Phenom ParticleX 全自動分析系統(tǒng)
金屬顆粒可靠性檢測,對于組件功能(例如電子零件)有至關(guān)重要的作用,因此,小編建議通過掃描電鏡和能譜(SEM+EDX)的方法進行顆粒分析,ParticleX 全自動清潔度分析系統(tǒng)是一個理想的選擇。而對于組件清潔的常規(guī)分析,通過光學顯微鏡檢測的金屬顆粒數(shù)僅供參考,顆粒總數(shù)是一個更值得信賴的參數(shù)。
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