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使用氣流磨制備高純二氧化硅（石英砂）時，需特別注意以下關鍵事項，以確保產(chǎn)品質(zhì)量、設備安全和工藝效率：

1. 原料預處理

純度控制：原料需預先提純（如酸洗、磁選）以減少金屬雜質(zhì)（Fe、Al等），避免污染最終產(chǎn)品。

干燥處理：確保原料含水量低（<0.1%），防止結(jié)塊或粘附在磨腔內(nèi)。

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2. 氣流磨參數(shù)優(yōu)化

氣流壓力與速度：  

壓力通常需 0.7~1.2 MPa，過高會導致過粉碎，增加能耗；過低則粒度分布不均。  

使用惰性氣體（如氮氣）可避免氧化或濕度影響。

分級輪轉(zhuǎn)速：調(diào)整轉(zhuǎn)速以控制目標粒徑（如D50=1~10 μm），避免過細粉末團聚。

進料速率：需均勻穩(wěn)定，過快會導致堵塞，過慢降低效率。

3. 防污染措施

材質(zhì)選擇：磨腔、管道、分級輪需采用 **高純陶瓷（如氧化鋯）或聚氨酯內(nèi)襯，減少金屬磨損引入雜質(zhì)。

密封性：系統(tǒng)需嚴格密封，防止環(huán)境粉塵污染，尤其對電子級（≥99.99%純度）產(chǎn)品。

4. 粉塵與靜電控制

防爆設計：二氧化硅粉塵具有爆炸性，需配備防爆電機、泄爆片及惰性氣體保護。

抗靜電措施：管道接地，使用抗靜電濾袋（如覆膜滌綸），避免粉末吸附。

5. 后處理與儲存

表面改性：必要時用硅烷偶聯(lián)劑處理，防止團聚。

包裝環(huán)境：在干燥惰性氣氛（如氮氣手套箱）中包裝，避免吸濕。

6. 設備維護與監(jiān)測

定期清理：停機后徹底清除殘留粉末，防止交叉污染。

在線檢測：采用激光粒度儀實時監(jiān)控粒徑，及時調(diào)整參數(shù)。

7.常見問題與對策

問題：產(chǎn)品純度下降  ；

對策：檢查磨損部件（如噴嘴、內(nèi)襯），更換為高純材質(zhì)。

問題：粒度分布變寬  

對策：校準分級輪轉(zhuǎn)速或檢查氣流穩(wěn)定性。通過嚴格控制上述環(huán)節(jié)，可高效制備高純度、窄粒度分布的二氧化硅粉末，滿足光伏、半導體或高端陶瓷等領域的應用需求。