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新“球形納米氧化鋁拋光液”:我會(huì)更好地幫助碳化硅晶圓拋光!


來源:中國粉體網(wǎng)   山林

[導(dǎo)讀]  一種碳化硅晶圓拋光用的球形納米氧化鋁拋光液。

中國粉體網(wǎng)訊  近日,國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,湖南皓志科技股份有限公司取得一項(xiàng)名為“一種碳化硅晶圓拋光用的球形納米氧化鋁拋光液”的專利,拋光液移除速率高、懸浮分散性能好。


化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)技術(shù)具有獨(dú)特的化學(xué)和機(jī)械相結(jié)合的效應(yīng),是在機(jī)械拋光的基礎(chǔ)上,根據(jù)所要拋光的表面,加入相應(yīng)的化學(xué)試劑,從而達(dá)到增強(qiáng)拋光和選擇性拋光的效果;瘜W(xué)機(jī)械拋光液的性能是影響化學(xué)機(jī)械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò)合劑、表面活性劑、磨料、pH調(diào)節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分,各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會(huì)產(chǎn)生很大的影響。


目前市場上使用最為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于藍(lán)寶石、碳化硅等材料的CMP技術(shù)中。Al2O3具有10余種晶型,其中常見的為α、β、γ等,一般選用50~200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。


但是,Al2O3磨粒在水溶液中由于靜電力等作用容易團(tuán)聚成大顆粒膠團(tuán),出現(xiàn)絮凝分層等現(xiàn)象,導(dǎo)致拋光液穩(wěn)定性較差。


 

來源:皓志科技官網(wǎng)


湖南皓志科技股份有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的高新技術(shù)企業(yè)。公司專注于拋光材料,鍍膜材料和調(diào)光產(chǎn)品三大系列產(chǎn)品。其中拋光粉產(chǎn)品主要應(yīng)用于液晶玻璃基板,手機(jī)蓋板,盤基片,精密光學(xué)玻璃等領(lǐng)域;研磨液、拋光液產(chǎn)品主要應(yīng)用于半導(dǎo)體硅片、藍(lán)寶石襯底片、窗口片、高檔五金、手機(jī)外殼等領(lǐng)域;納米銀線系列產(chǎn)品應(yīng)用于觸控面板、柔性顯示、薄膜太陽能電池等領(lǐng)域;調(diào)光系列產(chǎn)品應(yīng)用于行政辦公場所、酒店、醫(yī)療機(jī)構(gòu)、銀行、商場以及高檔住宅、別墅等領(lǐng)域。


 

來源:皓志科技官網(wǎng)


皓志科技本次發(fā)明公開的一種碳化硅晶圓拋光用的球形納米氧化鋁拋光液,涉及半導(dǎo)體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域,其所用原料的重量百分比分別為:氧化鋁0.5‑55、氧化劑0.05‑25、抑制劑0.1‑10、表面活性劑0.01‑12、分散劑0.01‑15、pH調(diào)節(jié)劑0.1‑10、余量為高純水;其制備過程為:①備料;②磨料預(yù)處理;③混合;④pH值調(diào)節(jié);⑤高壓均質(zhì)。


此次發(fā)明的球形納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長、易清洗、通用性好等特點(diǎn),適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。


參考來源:

[1] 孟凡寧等,化學(xué)機(jī)械拋光液的研究進(jìn)展

[2] 國家知識產(chǎn)權(quán)局、皓志科技官網(wǎng)、中國粉體網(wǎng)


(中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林)

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