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上海研倍新材料 專業(yè)生產(chǎn)金屬粉末 Ni2Si 金屬粉末

1、產(chǎn)品信息

2、產(chǎn)品規(guī)格

樣品測試包裝：客戶指定（＜1kg / 真空密封瓶）

樣品產(chǎn)品包裝：1kg / 真空密封瓶

常規(guī)產(chǎn)品包裝：5kg/10kg/25kg

備注：采用雙層真空包裝，內(nèi)部充入高純氬氣保護，外部為防潮鋁箔袋封裝，支持定制包裝規(guī)格。需存放于干燥、通風、無腐蝕性氣體的環(huán)境中，避免與空氣、水汽接觸，遠離酸、堿、強氧化劑。

3、產(chǎn)品概述

一硅化二鎳（Ni?Si）粉末由上海研倍新材料通過粉末冶金法、化學氣相沉積法或真空熔煉法制備而成，具有純度高、粒徑均勻、化學穩(wěn)定性良好的特點。作為過渡金屬硅化物，Ni?Si 晶體呈現(xiàn)四方晶系結(jié)構(gòu)，鎳（Ni）與硅（Si）原子間獨特的化學鍵合，賦予其優(yōu)異的物理化學性能。它具備較高的硬度和良好的熱穩(wěn)定性，熔點約 1120℃，在高溫環(huán)境下結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，抗氧化溫度可達 700℃以上 。同時，Ni?Si 是一種性能優(yōu)良的金屬硅化物半導體，具有較好的導電性和獨特的電學特性；在化學介質(zhì)中也表現(xiàn)出一定的惰性，能夠保持穩(wěn)定。這些特性使一硅化二鎳成為電子、冶金、催化等領域重要的基礎材料。

4、產(chǎn)品用途

電子與半導體領域：利用 Ni?Si 良好的導電性和半導體特性，可用于制造集成電路中的接觸電極、硅基半導體器件的硅化物層等。在芯片制造過程中，作為接觸電極材料，能有效降低電極與硅基底之間的接觸電阻，提高電子器件的性能和運行效率；在硅基半導體器件中形成硅化物層，可優(yōu)化器件的電學性能，增強其穩(wěn)定性和可靠性，助力高性能芯片和電子元器件的研發(fā)與生產(chǎn)。

冶金領域：在鋼鐵和有色金屬冶煉中，Ni?Si 可作為合金添加劑使用。加入鋼中，能夠改善鋼材的強度、韌性和耐腐蝕性，尤其適用于不銹鋼、耐熱鋼等特種鋼的生產(chǎn)；在有色金屬合金（如銅合金、鎳基合金）中添加 Ni?Si，可細化晶粒，提升合金的綜合力學性能，廣泛應用于機械制造、航空航天等對金屬材料性能要求較高的行業(yè)。

催化領域：Ni?Si 獨特的電子結(jié)構(gòu)和表面性質(zhì)使其具有良好的催化活性，可作為催化劑或催化劑載體應用于多種化學反應。在加氫反應、脫氫反應以及石油化工催化過程中，Ni?Si 基催化劑能夠有效降低反應活化能，提高反應速率和選擇性，助力化工生產(chǎn)過程的優(yōu)化和效率提升；同時，在環(huán)境催化領域，可用于處理有機污染物，促進綠色化學工藝的發(fā)展。

科研與新材料開發(fā)：作為科研基礎材料，Ni?Si 用于研究過渡金屬硅化物的晶體結(jié)構(gòu)、電子性能、物理化學性質(zhì)等前沿科學問題；通過與其他材料復合或摻雜改性，可開發(fā)新型功能材料，如磁性合金、超導材料、儲能材料等，滿足新能源、電子信息、國防**等新興領域?qū)Ω咝阅苄虏牧系钠惹行枨?，推動新材料技術的創(chuàng)新與進步。