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ASPIPER 3000

非線性光學(xué)晶圓缺陷檢測系統(tǒng)

ASPIRER 3000非線性光學(xué)晶圓缺陷檢測系統(tǒng)可以提供晶圓級別的缺陷檢測，對界面及膜層質(zhì)量進(jìn)行綜合測試分析，提升各類制程的良率。獨有的非線性光學(xué)技術(shù)配合自主研發(fā)的檢測系統(tǒng)可提供超高的檢測靈敏度，并對有、無圖案晶圓均有良好的適用性。ASPIRER 3000機臺可滿足客戶在研發(fā)和量產(chǎn)中對晶圓質(zhì)量的快速、無損、精準(zhǔn)檢測需求。

產(chǎn)品特點

非接觸、無損傷

快速檢測

在線檢測

軟件操作便捷

Wafer Map等多樣化表征手段

主要應(yīng)用

各類成膜工藝質(zhì)量的監(jiān)控

各類生產(chǎn)工藝機臺穩(wěn)定性的監(jiān)控

刻蝕等工藝對晶圓損傷的檢測與監(jiān)控

離子注入及退火工藝的質(zhì)量監(jiān)控

清洗等工藝質(zhì)量的監(jiān)控