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面議型號
EM81品牌
kyky產(chǎn)地
北京樣本
暫無分辨率:
SE 0.9nm@30kv: 3nm@1kV探測器:
高真空二次電子探測器加速電壓:
02kv-30kV電子槍:
Schottky 肖特基場發(fā)射電子槍電子光學(xué)放大:
光學(xué)放大1x-100x光學(xué)放大:
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KYKY-EM81系列超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡
一、產(chǎn)品簡介
KYKY-EM8100高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡,采用鏡筒加速技術(shù)、低像差錐形物鏡等全新電子光學(xué)設(shè)計(jì),能夠在低電壓下實(shí)現(xiàn)亞納米級的成像效果,對各類材料具有廣泛的適用性,能夠滿足多種科研和工業(yè)領(lǐng)域的測試需求。
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
l 亞納米級分辨率
l 低像差錐形物鏡
l 大束流
l 自動化控制系統(tǒng)
l 超大樣品倉
l 鏡筒加速技術(shù)
三、技術(shù)參數(shù)
四、產(chǎn)品功能
1、二次電子探測器
高信噪比,高帶寬 · 大景深,表征樣品表面形貌結(jié)構(gòu)
2、不同探測器同時成像
· 顯示SE,BSE 雙通道圖像
· 可任意設(shè)置不同探
· BSE探測器,反應(yīng)樣品表面的成分特征
3、陰極熒光成像
4 大圖拼接
· 樣品區(qū)全域視場矩陣自動規(guī)劃,拍照流程無需人工干預(yù)
· 百千張級數(shù)據(jù)量快速拼接實(shí)時預(yù)覽,構(gòu)建全域清晰掃描大圖
5 粒度分析
采用深度學(xué)習(xí)的復(fù)合圖像處理算法,自動識別比例尺,精準(zhǔn)識別圖像中的顆粒,多種形態(tài)參數(shù)的統(tǒng)計(jì)與導(dǎo)出,
摻鋁碳酸鈷
多種形態(tài)參數(shù)結(jié)果
多種形態(tài)數(shù)據(jù)輸出
6 關(guān)鍵尺寸測量
具備距離,角度,水平線/垂直線/圓徑測算等,豐富的圖像測量功能
五、定制能力
1、電子束曝光(EBL)
l 功能:基于掃描電鏡的電子束曝光系統(tǒng)(EBL),能夠精確地控制電子束的掃描路徑和能量沉積,從而實(shí)現(xiàn)高分辨率的圖形曝光。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的電子束掃描控制技術(shù),支持靈活多樣的圖案設(shè)計(jì)和精確控制,不僅具有電子束曝光功能,還保留了原SEM 的觀測功能,這使得用戶可以在同一臺設(shè)備上完成樣品的觀測和加工,提高了工作效率和便利性。
l 參數(shù):*小束斑 優(yōu)于5nm; 探針電流 1pA~20nA; 線寬 優(yōu)于15nm
l 應(yīng)用場景
科研教學(xué)、微電子制造、原型器件開發(fā)、納米材料制備、生物醫(yī)療研究
l 應(yīng)用案例
二維周期陣列結(jié)構(gòu)加工
50nm線寬/周期200nm光柵結(jié)構(gòu)
60nm直徑點(diǎn)陣周期結(jié)構(gòu)
聲表面波碳納米管諧振器耦合器件
場效應(yīng)晶體管電極
2、真空互聯(lián)
真空互聯(lián)掃描電鏡用于對樣品車傳遞過來的產(chǎn)品進(jìn)行自動檢測,分析其表面晶粒形態(tài)大小分布等信息,評估其薄膜的膜質(zhì)量情況。
真空互聯(lián)系統(tǒng)可以在真空狀態(tài)下對樣品進(jìn)行預(yù)處理,并傳遞到掃描電鏡內(nèi)進(jìn)行觀測.
自動檢測和反饋系統(tǒng),對樣品標(biāo)簽、位置狀態(tài)、樣品交接進(jìn)行監(jiān)控和記錄,可以清晰的了解樣品傳輸狀況。
3、激光聯(lián)用-超快電鏡
l 功能:
超快電鏡利用激光、電場等外界刺激使樣品達(dá)到激發(fā)態(tài)。使用時間延遲可調(diào)的另一束激光作用于電鏡燈絲,產(chǎn)生脈沖電子束照射于樣品表面進(jìn)而收集表面逸出的二次電子對激發(fā)瞬態(tài)進(jìn)行表征。
l 掃描電鏡電子槍及發(fā)射陰極改造
改造后的電子槍
(1)激光入口 ;
(2)探測激光引入示意圖,與電子束方向呈一定角度夾角;
(3)從激光入射口可見陰極工作時的發(fā)射狀態(tài)。
l 應(yīng)用領(lǐng)域
超快結(jié)構(gòu)動力學(xué),新型光場隱含物態(tài)調(diào)控、自由電子量子光學(xué)等。
暫無數(shù)據(jù)!
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