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成都真空設(shè)備 research熱蒸發(fā)/磁控濺射
成都真空設(shè)備 research熱蒸發(fā)/磁控濺射

參考價(jià)格

100-150萬(wàn)元

型號(hào)

CM-008

品牌

超邁光電

產(chǎn)地

四川成都

樣本

暫無(wú)
成都漢普升科技有限公司

會(huì)員

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第2年

|

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●主要功能:多靶復(fù)合磁控濺射鍍膜機(jī),可滿(mǎn)足合金膜、單層膜、多層膜、導(dǎo)電膜、非導(dǎo)電膜和反應(yīng)濺射的需要,具有極高的實(shí)用性和通用性(三靶、垂直與共濺射合一、在線清洗基片等),能夠提供高水平功能薄膜研制,特別適合于半導(dǎo)體、新能源、磁性材料、儲(chǔ)氫材料、二維材料、超硬薄膜、固體潤(rùn)滑薄膜、自潔凈薄膜、等領(lǐng)域前沿研究,同時(shí)可選配等離子刻蝕功能和輔助鍍膜。


1. 主體和腔室:全封閉框架結(jié)構(gòu),機(jī)柜和主機(jī)為一體式結(jié)構(gòu),骨架默認(rèn)為白色,門(mén)板為白色,四只腳輪,可固定,可移動(dòng)。真空腔室采用優(yōu)質(zhì)0Cr18Ni9不銹鋼材質(zhì)(SUS304),腔體尺寸不小于為:?450x500mm;真空室為前開(kāi)門(mén)方式,采用鉸鏈連接,自動(dòng)鎖緊,并配有門(mén)到位開(kāi)關(guān),徹底杜絕誤操作;真空腔室設(shè)置DN100觀察窗口,位置在真空腔體正前方。

2. 真空系統(tǒng):

2.1 極限真空度≤Pa(空載、經(jīng)充分烘烤除氣并充干燥氮?dú)猓?/p>

2.2 真空配置。 前級(jí)泵為機(jī)械真空泵,抽速優(yōu)于8L/S,超高分子泵一臺(tái),抽速1200L/S。

2.3 真空測(cè)量:采用進(jìn)口全量程真空計(jì),優(yōu)選德國(guó)萊寶與瑞士inficon。

3. 工件盤(pán)系統(tǒng):配備工件盤(pán)一套,可安裝4英寸基片1片,選配高溫工件盤(pán)<800℃。

4. 磁控濺射系統(tǒng):配置三只2-4英寸濺射陰極,三只靶均能兼容直流和射頻濺射,并可單獨(dú)自由切換,磁控靶安裝與真空室底部,向上濺射成膜。

5.充氣系統(tǒng):二路分別配置MFC質(zhì)量流量控制器,均為0-100SCCM,準(zhǔn)確度±1%F.S,線性±0.5%F.S,重復(fù)精度±0.2%F.S。

5. 其他:配置斷水保護(hù),配置冷水機(jī)組,冷水機(jī)制冷量為5000Kcal;設(shè)備配備小型靜音空壓機(jī);保修期1年,維修響應(yīng)時(shí)間不超過(guò)24小時(shí)。

6. 操作系統(tǒng)及安全監(jiān)控:采用人機(jī)界面+西門(mén)子PLC實(shí)現(xiàn)對(duì)設(shè)備集中自動(dòng)控制;所有控制系統(tǒng)和電氣安裝均與主機(jī)集成在一起,避免控制柜與主機(jī)之間線路放在地上或從頂部引入帶來(lái)的問(wèn)題,模塊化設(shè)計(jì)能確保社保維護(hù)維修的便捷性。


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