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“For Wafer” Perpendicular Magnetic Layer Evaluation System

“晶片”垂直磁層評估系統(tǒng)

優(yōu)勢

測量垂直磁層12英寸的晶圓

規(guī)格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement

(Polar Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探測光斑

φ1mm (Typ.)

磁場

Max. ± 25Oe (2.5T)

“For Wafer” In-Plane Magnetic Layer Evaluation System

“晶片”平面磁層評估系統(tǒng)

優(yōu)勢

測量平面磁層12英寸的晶圓

規(guī)格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement

(Longitudinal Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探測光斑

φ1mm (Typ.)

磁場

Max. ± 2kOe (0.2T)

“For Hard Disc” Perpendicular Magnetic Recording Layer

Evaluation System

“硬盤”垂直磁記錄層評估系統(tǒng)

優(yōu)勢

測量垂直磁性介質(zhì)的2.5英寸和3.5英寸的硬盤

規(guī)格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement

(Polar Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探測光斑

φ1mm (Typ.)

磁場

Max. ± 25kOe (2.5T)

“For Hard Disc” Soft Under Layer (SUL) Evaluation System

“硬盤”下軟層評估系統(tǒng)

優(yōu)勢

測量軟層下的2.5英寸和3.5英寸的硬盤

規(guī)格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement

(Longitudinal Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探測光斑

φ1mm (Typ.)

磁場

Max. ± 3kOe (0.3T)