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高溫沉積系統(tǒng)(PECVD or Sputter)
高溫沉積系統(tǒng)(PECVD or Sputter)

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上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

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技術(shù)規(guī)格：

- 基底尺寸：10cm x 10cm;

- 溫度：800攝氏度;

- PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)或者Sputter(磁控濺射鍍膜);

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10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性?xún)r(jià)比

10分
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公司動(dòng)態(tài)
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高溫沉積系統(tǒng)(PECVD or Sputter)信息由上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司為您提供，如您想了解更多關(guān)于高溫沉積系統(tǒng)(PECVD or Sputter)報(bào)價(jià)、型號(hào)、參數(shù)等信息，歡迎來(lái)電或留言咨詢(xún)。
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