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EZI UV Nanoimprint System PL600

EZI 紫外曝光納米壓印系統(tǒng)

EZ Imprinting推出了一款臺(tái)式獨(dú)立納米壓印系統(tǒng)：PL系列400/600.

EZImprinting是一種超高產(chǎn)率（> 99％）納米壓印光刻系統(tǒng)，帶有低于10納米的分辨率和一步自動(dòng)釋放功能。

特點(diǎn)：

? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理， PL400適用于4英寸晶圓處理

? 低于10納米分辨率，產(chǎn)率高達(dá)99％

? 一步自動(dòng)釋放功能，可防止分離過(guò)程中模具/基材損壞，使壓印產(chǎn)量**化

? 支持各種類型的硬模和軟模

? 可變模具和基材尺寸，靈活方便

? 可編程PLC，通過(guò)自定義參數(shù)進(jìn)行過(guò)程控制，帶觸摸屏用戶界面

? 對(duì)準(zhǔn)功能選項(xiàng)

? 多種工藝，適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件，顯示器，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)，生物醫(yī)學(xué)器件，半導(dǎo)體IC，化學(xué)合成和先進(jìn)材料等

? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對(duì)硬度或厚度沒(méi)有限制，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容

PL600

基材尺寸，6“標(biāo)準(zhǔn)（尺寸較小，形狀不規(guī)則）

印記區(qū)：與晶圓尺寸相同。

模板尺寸 6”，4” ，2” and 1”

壓印壓力: 1 psi標(biāo)準(zhǔn)

模具/基材自動(dòng)釋放: 包括 - 不需要特殊工具

紫外線曝光時(shí)間:在95％強(qiáng)度水平下2-3分鐘

對(duì)準(zhǔn)功能: x，y，z和theta（精度2um）