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PL400-EZI紫外曝光納米壓印系統(tǒng)
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丹麥

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EZ Imprinting推出了一款臺式獨立納米壓印系統(tǒng):PL系列400/600.

EZImprinting是一種超高產率(> 99%)納米壓印光刻系統(tǒng),帶有低于10納米的分辨率和一步自動釋放功能。

該平臺提供具有微定位夾具的機械平臺,用于安裝納米壓印室,UV固化源和對準顯微鏡。

它即可以作為納米壓印系統(tǒng),也可以作為傳統(tǒng)的掩模對準器,同時提供可編程的自動控制功能。

EZI UV Nanoimprint System PL400

特點:

? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理

? 低于10納米分辨率,產率高達99

? 一步自動釋放功能,可防止分離過程中模具/基材損壞,使壓印產量**化

? 支持各種類型的硬模和軟模

? 可變模具和基材尺寸,靈活方便

? 可編程PLC,通過自定義參數進行過程控制,帶觸摸屏用戶界面

? 對準功能選項

? 多種工藝,適用于各種應用光學器件,顯示器,數據存儲,生物醫(yī)學器件,半導體IC,化學合成和先進材料等

? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容

EZ Imprinting處理器參數:

基材尺寸: 4“標準(尺寸較小,形狀不規(guī)則)

印記區(qū) : 與晶圓尺寸相同。

模板尺寸 4”,2” and 1”

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