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產(chǎn)品型號(hào)

GSL-CKJS-450-B1磁控濺射

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水）

2、電：AC380V 50Hz，必須有良好接地

3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備實(shí)驗(yàn)氣體氣瓶（自帶?10mm雙卡套接頭）及減壓閥

4、場(chǎng)地：設(shè)備尺寸3500×1600mm，承重1000kg以上

5、通風(fēng)裝置：需要

主要特點(diǎn)

1、真空度高。

2、可制備多種薄膜，金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等，應(yīng)用廣泛。

3、體積小，操作簡(jiǎn)便。

4、清理安裝便捷。

5、控制可選一體化觸摸屏控制

技術(shù)參數(shù)

1、主濺射室尺寸：?450×355mm筒形真空室

2、主濺射室真空度：5×10-5Pa

3、永磁靶3套，靶材尺寸φ2″，各靶射頻與直流濺射兼容（其中1個(gè)靶可濺射鐵磁材料），靶與樣品距離90-110mm可調(diào)

4、三靶共濺，三個(gè)靶可共同折向樣品中心，距離40-80mm可調(diào)

5、基片加熱與水冷獨(dú)立工作，加熱爐可與水冷樣品臺(tái)可互換，加熱工位**溫度600℃±1℃

6、樣品尺寸：φ1″

7、樣品臺(tái)可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5-15轉(zhuǎn)/分

8、基片可加-200V負(fù)偏壓

9、公轉(zhuǎn)6工位樣品臺(tái)，可一次性安裝6片φ1″基片，拆下水冷加熱樣品臺(tái)可換上6工位樣品臺(tái)，其中5個(gè)工位為自然冷卻工位，1個(gè)加熱工位，加熱工位溫度600℃±1℃

產(chǎn)品規(guī)格

整機(jī)尺寸：1500×900mm×2000mm；

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

電源控制系統(tǒng)

1套

2

真空獲得系統(tǒng)

1套

3

真空測(cè)量裝置

1套