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產品簡介：450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產。
產品型號 | 450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) |
技術參數 | 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。 技術指標： 極限真空度：≤6.7×10 Pa 恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門，后置抽氣系統(tǒng)e型電子槍：陽極電壓：6kv、8kv(1套) 坩堝：水冷式坩堝，四穴設計，每個容量11ml 功率：0-6KW可調 電阻蒸發(fā)源(可選) 電壓：5、10V 功率：電流300A，輸出功率3Kw1套，可切換水冷電 極3根，組成2個蒸發(fā)舟 基片尺寸：可放置4″基片 樣品臺：基片可連續(xù)回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm加熱溫度 ≤800°C±1°C，可調手動控制樣品擋板組件1套 氣路系統(tǒng)：質量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制儀：監(jiān)測膜厚顯示范圍：0-99μ9999? |
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