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專業(yè)的PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)（基片尺寸Φ2inch， 4inch， 6inch， 8inch、or flexible tape）供應(yīng)商，憑借多年的嫻熟的經(jīng)驗(yàn)、雄厚的研發(fā)實(shí)力和生產(chǎn)能力，為不同客戶提供專業(yè)脈沖沉積系統(tǒng)方案和優(yōu)質(zhì)的技術(shù)服務(wù)；并且已經(jīng)被眾多**高校、研究所和R&D企業(yè)所采用。

同時(shí)也為客戶提供同類設(shè)備：

大面積電子束沉積系統(tǒng)：沉積區(qū)域70mmx200mm，適合金屬、絕緣材料和介電材料等沉積；

大面積濺射系統(tǒng)：沉積區(qū)域Max 75mm(W) x 310mm(L)，適合金屬、半導(dǎo)體、絕緣材料和介電材料等沉積；

小型化濺射臺(tái)：φ１inch～φ２inch基片，價(jià)格優(yōu)惠，特別適合高校研究使用；

技術(shù)參數(shù)：

基片尺寸：Φ2inch， 4inch， 6inch， 8inch、or flexible tape material applied；

靶尺寸：Size Φ1”inch to Φ８inch；

靶數(shù)量：up to 6pcs；

基片加熱： up to 900℃；

真空度：5x10-5 Pa，(On request，6x10-6 Pa or less) ；

主要特點(diǎn)：

靶Swing功能；

激光束掃描功能；

配備準(zhǔn)分子激光器；

可選功能：Load Lock Chamber

RHEED分析功能

多功能系統(tǒng)：Comibination with Sputter gun，Electron beam、IBAD