◆ 電拋光多空不銹鋼超高真空腔體

◆ 可集成熱蒸發(fā)源或濺射源

◆ 可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺

◆ 流量計或針閥精確控制氣體流量

◆ 標(biāo)準(zhǔn)真空計

◆ 干泵與渦輪真空泵

◆ 可選配不銹鋼快速進(jìn)樣室

◆ 可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)

◆ 可制備：金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格等。

產(chǎn)品特點◆ 超高真空不銹鋼腔體

◆ 電子束、熱蒸發(fā)、脈沖激光沉積可集成

◆ 獨立襯底加熱，可旋轉(zhuǎn)

◆ 多量程氣體流量控制器

◆ 標(biāo)準(zhǔn)氣壓計

◆ 機械、分子、冷凝真空泵

可選不銹鋼快速進(jìn)樣室

◆ 襯底和源距離可控

◆ 可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

產(chǎn)品特點

◆ 高溫石英管反應(yīng)器設(shè)計

◆ 溫度范圍：室溫到1100℃

◆ 多路氣體精確控制

◆ 標(biāo)準(zhǔn)氣壓計

◆ 易于操作

◆ 可配機械泵實現(xiàn)低壓TCVD

◆ 可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

◆ 液體前驅(qū)體噴頭

◆ 2英寸超大**溫度均勻區(qū)

產(chǎn)品特點：

◆ 水冷不銹鋼超高真空腔

◆ 熱絲易安裝、更換

◆ 4個不同量程氣體控制器

◆ 標(biāo)準(zhǔn)氣壓計

◆ 襯底與熱絲距離可調(diào)節(jié)

◆ 2英寸襯底加熱、可旋轉(zhuǎn)

◆ **制備金剛石和石墨烯