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日本Advance Riko公司推出的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，可對SiC以及其它高熔點材料進行退火處理。
應用領域
? SiC氧化膜的生成和激活；
? 半導體開發(fā)與研究；
? 玻璃基板、陶瓷、復合材料等的熱處理；
? 作為熱處理爐對高熔點材料進行熱處理；
? 陶瓷材料的熱沖擊測試。
產品特點
? 可以在10s內加熱到超高溫1800℃；
? 可以加熱后直接水淬；
? 紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；
? 緊湊的桌面型設計；
? 通過USB與電腦連接，輸入溫度參數(shù)；
? 在加熱過程中，在電腦屏幕顯示溫度。
基本參數(shù)
溫度范圍：室溫-1800℃
樣品尺寸：W15mm×L15mm×T1mm
樣品支架：氧化鋁或者高純碳
加熱氛圍：多種
熱電偶：JIS B φ0.3 （W-Re可選）
? 可以在10s內加熱到超高溫1800℃；
? 可以加熱后直接水淬；
? 紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；
? 緊湊的桌面型設計；
? 通過USB與電腦連接，輸入溫度參數(shù)；
? 在加熱過程中，在電腦屏幕顯示溫度。
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