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面議型號(hào)
單晶圓刻蝕系統(tǒng)品牌
牛津產(chǎn)地
英國(guó)樣本
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憑借在蝕刻GaN,SiC和藍(lán)寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗(yàn),我們的技術(shù)既能夠滿足性價(jià)比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)為得到更為精湛的刻蝕效果提供了智能解決方案,使您在行業(yè)中能保持競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。
高效的刻蝕速率
低購(gòu)置成本
專為腐蝕性的化學(xué)成分而設(shè)計(jì)
出色的刻蝕均勻性
適用于藍(lán)寶石的靜電壓盤技術(shù)
藍(lán)寶石和硅上的GaN
高導(dǎo)通抽氣系統(tǒng)
可與其它PlasmaPro系統(tǒng)集成
設(shè)備特點(diǎn):
主動(dòng)冷卻電極 - 在刻蝕過(guò)程中保持樣品溫度
高功率ICP源 - 產(chǎn)生高密度等離子體
可靠的硬件且易于維護(hù) - 可保持長(zhǎng)時(shí)間正常運(yùn)轉(zhuǎn)
磁場(chǎng)墊環(huán) - 增強(qiáng)離子的控制和均勻性
靜電壓盤技術(shù) - 適用于藍(lán)寶石,以及藍(lán)寶石和硅基的GaN
加熱的腔室內(nèi)襯 - 優(yōu)化以減少腔壁沉積
先進(jìn)的自動(dòng)匹配單元(AMU) - 提供快速,高效和準(zhǔn)確的匹配,確保工藝的高度準(zhǔn)確重復(fù)性
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
您是否已飽受核磁送檢排隊(duì)周期長(zhǎng)、結(jié)果反饋不及時(shí)和反應(yīng)情況無(wú)法隨時(shí)掌握的煎熬?您是否也面臨核磁教學(xué)中學(xué)生只能學(xué)習(xí)理論而無(wú)法親自實(shí)操的窘境?現(xiàn)在X-Pulse寬帶臺(tái)式核磁波譜儀可以完全解決上述問(wèn)題,儀器因