表面分析設(shè)備UHV超高真空腔體

表面分析超高真空系統(tǒng)設(shè)備, 提供樣本表面在分析過程時維持潔凈, 以利縱深分析。

表面分析設(shè)備CF300 Flange超高真空腔室

材質(zhì)：304S.S.

表面處理：電解拋光

規(guī)格：CF300 Flange 圓柱形 UHV超高真空腔室

泄漏率<8 x 10-11mbar.l/sec

工作壓力<1 x10-10 torr

RGA總壓<1 x10-9 torr時， 45amu以上物質(zhì)總分壓<0.1%

高科技真空系統(tǒng)環(huán)境制程的開發(fā)初期都需要在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行許多測試，Htc日揚(yáng)真空制造之客制化真空腔體裝配于多種實(shí)驗(yàn)設(shè)備，為研究者提供了適當(dāng)?shù)墓ぞ咭赃M(jìn)行各項(xiàng)實(shí)驗(yàn)。 

Htc日揚(yáng)真空已建立的實(shí)績包括各種實(shí)驗(yàn)用真空鍍膜腔體、太空腔仿真裝置、表面分析系統(tǒng)、光學(xué)量測系統(tǒng)及氣體檢測設(shè)備等，另外也承制了國內(nèi)外同步輻射中心超高真空系統(tǒng)的腔體、真空鍍膜機(jī)、蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、離子鍍膜機(jī)和等離子化學(xué)沉積真空裝置學(xué)術(shù)研究。。

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